Samsung перейдет на производство микросхем по 7-нанометровому EUV-техпроцессу LPP (Laser-Produced Plasma)

Samsung перейдет на производство микросхем по 7-нанометровому EUV-техпроцессу LPP (Laser-Produced Plasma)
CR2007 Gary W. Meek, 770.978.3618

На сегодняшний день самые передовыми в производстве полупроводниковых микрочипов считаются нанометровые технологические процессы, которые выполняются на фотолитографическом оборудовании, выпускаемом нидерландской компанией ASML и японской корпорацией Nikon.

Работа технологических установок этих «законодателей» технологической моды, базируется на использовании лазеров, генерирующих ультрафиолетовое излучение с длиной волны 193 нм. Но такой «длинноволновый ультрафиолет», даже при дополнительном использовании иммерсионной технологии ограничивает возможность получения ширины проводящих дорожек на интегральных микросхемах десятью нанометрами, что существенно тормозит прогресс в производительности микрочипов.

При этом теоретические изыскания в этой области давно показали перспективность продвижения в коротковолновой диапазон ультрафиолетового излучения (в научной литературе его часто называют «глубоким ультрафиолетом», а соответствующую технологию микроэлектронного производства — экстремальной ультрафиолетовой литографией — Extreme UltraViolet Lithography — EUV, EUVL).

Источником «глубокого ультарфиолета» с длиной волны 13,5 нм в процессе EUV является плазма. Благодаря такому укорочению рабочей длины волны обеспечивается возможность значительного уменьшения линейных размеров: по сравнению с распространенным сегодня в микроэлектронной промышленности 10-нанометровым процессом, не менее, чем на 40%. Вторым важным преимуществом литографического процесса EUV является обеспечиваемая им повышенная в 1,7 раза точность печати.

Эти достоинства EUV известны давно, но для перехода от теории к практике разработчикам перспективных технологий микроэлектронного производства понадобились десятки лет. И вот на днях стало известно, что на одном из трех заводов Samsung Electronics, производящих полупроводниковые приборы в Южной Корее, начато производство микросхем по 7-нанометровому EUV-техпроцессу LPP (Laser-Produced Plasma) — 7LPP. И сегодня руководство Samsung Electronics прогнозирует выпуск своей 7-нанометровой продукции на мировой рынок не позже, чем через два года. А благодаря этой «тихой технологической эволюции», по мнению экспертов, в ИТ-отрасли произойдут революционные прорывы особенно в технологиях 5G и Интернета вещей.

Добавить комментарий